EN
▪ 层数 —— 34L
▪ 材料 —— S1000-2
▪ 板厚 —— 4.6mm
▪ 纵横比 —— 18:1
▪ 盲孔 —— L32 – L34
▪ 内层铜厚 —— 1 & 2 oz
▪ 最小线宽/线距 —— 0.1mm
▪ 最小孔径 —— 0.25/0.4mm
▪ 阻抗 —— 超过 20 条阻抗线
▪ 表面处理 —— 沉金
▪ 层数—— 20L
▪ 材料 —— IT180ATC
▪ 板厚 —— 2.35±0.1mm
▪ 内外层铜厚 —— 0.5OZ
▪ 最小线宽/线距 —— 0.072/0.255mm
▪ 最小孔径 —— 0.131mm
▪ Pitch —— 0.30mm
▪ 表面处理 —— 沉金+金手指
▪ 应用领域 —— 半导体老化测试
▪ 层数 —— 6L
▪ 材料 —— HL832NS
▪ 板厚 —— 0.5mm
▪ 内外层铜厚 —— H/H oz
▪ 最小线宽/线距 —— 0.05/0.04mm
▪ 最小孔径 —— 0.07mm
▪ 表面处理 —— 镍钯金
层数 —— 4L 1+2+1
▪ 板厚 —— 0.32mm
▪ 内外层铜厚 —— 17 um
▪ 最小线宽/线距 —— 25/25 um
▪ 最小孔径 —— 50um
▪ 表面处理 —— ENEPIG
层数 —— 2L
▪ 材料 —— TCB-8
▪ 板厚 —— 2.2 mm
▪ 内外层铜厚 —— 140 um
▪ 表面处理 —— ENIG
▪ 材料 —— 氧化铝陶瓷
▪ 板厚 —— 1.2 mm
▪ 内外层铜厚 —— 35 um